GD-MS：辉光放电质谱仪。能够检测硅中从ppb到ppt级别的多种金属杂质（如Fe、Cr、Ni、Cu、Na等），是分析超纯材料中痕量杂质的终极武器。
ICP-MS：电感耦合等离子体质谱仪。同样用于痕量元素分析，通常需要将样品溶解。
重要性：即使是十亿分之一级别的金属杂质，也会严重降低少数载流子寿命。
