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Microlab 科研型多功能直写光刻系统

Microlab 科研型多功能直写光刻系统
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Microlab 科研型多功能直写光刻系统

技术特点

  • 可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL
  • 支持4-8英寸幅面基板
  • 高刷新空间光调制无掩模直写
  • 自动聚焦
  • 3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光
  • 多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)
  • 多任务模式自动运行
  • GDSII、BMP、STL等文件格式支持

规格参数

* 参数取决于选配工件台幅面       * 具体指标因工艺差异有所不同

 

应用示例

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