3D微纳加工设备
Quantum X shape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合原理 （2PP） 的可定制 3D 激光光刻系统提供独有的 3D 打印技术，使其成为 2.5D 和 3D 形状的快速原型制作和晶圆级批量处理的优秀工具，并同时具备亚微米级的精度和准确度。
技术特点概要
· 快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工程流程
· 工业验证的晶圆级批量生产
· 200 个典型中尺度结构的过夜打印量
· 使用全新XLF打印套件，一次实现打印30立方厘米部件
· 广泛的特定应用和通用打印材料
· 模块化、可定制的系统
打印流程及尺寸范围
· 基于双光子聚合的高分辨率3D打印技术
· 应用于快速精确表面结构的双光子灰度光刻技术
· 纳米级打印 – SF 打印套件，可在 x/y 方向上控制特征尺寸，最小可达 100 纳米
· 微尺度打印 – MF 打印套件，用于打印 50 至 700 微米的典型尺寸
· 中尺度打印 – LF 打印套件，尺寸可达几毫米
· 宏观打印 – XLF Print Set 可加快最大 50 x 50 x 12 mm³ 的厘米级物体的批量生产
标准参数
表面粗糙度 (Ra) | ≤ 5 nm |
最小特征尺寸1 | 100 nm |
形状准确度 | ≤ 200 nm |
批量生产 | 200个标准结构的通宵产量 |
Single print field diameter | up to ≥ 4,000 µm |
最大扫描速度 | 6.25 m/s/透镜放大倍数2 |
系统基本特征
打印技术 | 基于双光子聚合的逐层3D打印
具有体素调节能力的双光子灰度光刻 |
基片 | 显微镜载片(3” x 1” / 76 x 26 mm2)
硅片，1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm)
玻璃、硅及其他不透明材料 |
光刻胶 | Nanoscribe IP胶 （聚合物打印）
Nanoscribe GP-Silica胶（玻璃打印）
兼容第三方及各类自主材料 |
最大打印面积 | 50 x 50 mm² |
提供的数据可能因光刻胶及几何形状而有不同
1 各空间方向上100nm的特征尺寸可控
2 e.g. 10倍物镜放大倍率：625nm/s
