Verification: 6f41f88e6841a42f

激光参数测量

激光参数测量设备是用于测量激光各种特性参数的仪器,以下是一些常见的类型:
  • 光束质量测量设备
    • 光束质量分析仪:可测量激光束的光斑尺寸、发散角、M² 因子等参数。通过对这些参数的测量,能评估光束的传输和聚焦特性,确保其符合设计要求,常用于激光器出厂检验、光学系统优化等场景。
    • 光斑分析仪:主要用于精确测量激光光斑的二维强度分布,根据工作原理可分为刀口式和 CCD/CMOS 成像式。刀口式通过在光束截面上扫描并截取光强数据来合成光斑轮廓;CCD/CMOS 成像式则采用面阵传感器直接成像,能实时捕获整个光束截面的强度分布,并以 2D/3D 图像的形式直观显示。
  • 功率与能量测量设备
    • 光功率计:用于测量激光器的输出功率,可评估功率稳定性,如平均功率、峰值功率波动等。其具有高精度与宽量程的特点,支持微瓦至瓦级功率测量,广泛应用于激光器长期运行稳定性测试、功率调节模块校准等场景。
    • 激光能量计:主要用于测量脉冲激光器的单脉冲能量,评估能量稳定性,适用于高能量皮秒激光器研发等场景,如工业加工、医疗美容领域。
  • 波长与光谱测量设备
    • 光谱分析仪:可测量激光器的输出波长、光谱宽度及模式分布,确保波长稳定性符合应用需求,常用于波长可调谐激光器研发、多波长激光系统校准等场景。
    • 多波长计:能同时测量输入信号的波长和功率,可区分多达 1000 个离散波长,具有高精度的特点,适用于复杂光信号分析。
  • 脉宽测量设备
    • 皮秒强度自相关仪:是直接测量皮秒级超短脉冲激光脉宽的核心设备,测量范围一般在 0.2-160ps,通过非共线逐点扫描强度自相关信号来间接计算脉宽,常用于激光器研发阶段、生产控制环节及工业加工中的脉宽校准。
    • 高速示波器 + 高速光电探测器:可作为自相关仪的补充,用于直接观察激光脉冲信号的时间域参数,适用于 100ps 以上脉宽测量。其原理是光电探测器将光信号转换为电信号,再由示波器显示脉冲波形,通过时间轴刻度计算脉宽。
  • 光学元件面形检测设备:干涉仪可利用光的干涉现象测量激光器内部光学元件,如反射镜、透镜的面形精度,即 PV 值、RMS 值,确保元件表面平整度满足设计要求,常用于高精度光学系统装配前质检。
浏览为 网格 列表
排序由
显示 每页

WEP电化学ECV掺杂浓度检测CVP21

德国WEP公司的CVP21电化学C-V剖面浓度测试仪可高效、准确的测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布。选用合适的电解液与材料接触、腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制。 电化学ECV剖面浓度测试仪主要用于半导体材料的研究及开发,其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。CVP21电化学C-V剖面浓度测量仪适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上,例如:硅、锗、III-V族化合物半导体(如GaN)。
电话报价

PIDcon bifacial 台式潜在诱导退化测试仪

特性 根据IEC 62804-TS标准方法 易于使用的台式设备 能够测量c-Si太阳能电池和微型模块 无需气候室 不需要电池层压 测量速度:小时到天 可测量参数:分流电阻、功率损耗、电导率、泄漏电流、湿度和温度 太阳能电池可以通过EL等进行研究 基于IP的系统允许在世界任何地方进行远程操作和技术支持
0.000 (CNY)

LIS-R3PL成像检测系统(光致发光成像检测系统)

太阳能电池设施产量提升和性能改进的“黄金标准”工具 LIS-R3 是一款用于硅锭、晶圆、电池和微型模块样品的先进表征工具。针对TOPCon、PERC、HJT等电池工艺,是多年研发、不断改进的结果。最近的升级包括与 24 个母线样本的兼容性、新的 SMU 和 BC 电池测量。它是主要太阳能生产商和世界领先研究机构使用的重要工具。主要应用包括流程改进、研发、流程调试和根本原因分析、质量保证和质量控制。 LIS-R3 提供 BT Imaging 专有的光致发光技术以及串联电阻成像、电致发光成像、Suns-Voc、暗和光 IV 测量、带有隐含 IV 参数的高级cell分析、cell前部和整体分离估计、QSS-PC 注入水平相关寿命、校准寿命成像等等。
电话报价

光致发光(PL)扫描测试系统

FPM快速光电流扫描显微系统适用于有机,钙钛矿材料, 可轻松进行光电流与晶粒分布测量。
电话报价
沪ICP备13027087号-6 测试环境,请勿下单或付款